【NAURA CVD GO】朔方华创高均匀性、大产能12英寸Cygnus系列PECVD建筑委用客户

朔方华创在PECVD建筑限度深耕多年，2012年推出诈欺于LED限度介质薄膜制备的EPEE 550系列PECVD建筑，以其优秀的工艺性能和性价比，在客户端销售近千台。2019年推出诈欺于功率器件、化合物、MEMS等限度介质薄膜制备的EPEE i200/800系列PECVD建筑，为近百家客户提供介质薄膜助长惩办有贪图。2022年推出诈欺于集成电路限度的Lyra系列12英寸介质薄膜助长PECVD建筑，以其优良的工艺效果和建筑的高知晓性获取了多家主流客户的招供。

这次推出的Cygnus系列12英寸等离子体增强化学气相千里积建筑，主要用于制备氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、碳氧化硅、碳氮化硅等多种高品性介质薄膜，可怡悦逻辑、存储和先进封装对钝化层、结巴层、抗反射层、刻蚀罢手层等种种化的诈欺需求。Cygnus取舍多站位多步千里积工艺格式可终结高均匀性、高产能，工艺一致性更好、可靠性更高，不仅怡悦现存逻辑、存储限度对介质薄膜助长的工艺条款，同期惩办了大翘曲硅片的传输和工艺均匀性穷苦，可适用于2.5D/3D三维器件工艺的介质薄膜助长。

]article_adlist-->

]article_adlist-->

朔方华创依托逾二十年的时候积淀，在薄膜千里积限度捏续探索与打破，积极拓宽种种先进薄膜家具的疆土，用功于为客户提供全主见、高品性的薄膜千里积惩办有贪图。朔方华创愿联袂业界同仁为集成电路产业的高质料发展孝敬力量，共同书写中国集成电路产业的新篇章。

END

]article_adlist-->

（转自：朔方华创）

海量资讯、精确解读，尽在新浪财经APP